2 Begriffsbestimmungen
Im Sinne dieses Kapitels werden folgende Begriffe bestimmt:
- Chemischreinigungsanlagen sind Anlagen, in denen Behandlungsgut mit Lösemitteln gereinigt wird.
Zur Chemischreinigungsanlage gehören außer der Chemischreinigungsmaschine alle mit der Anlage fest verbundenen Anlageteile, z. B. Lösemittel-Rückgewinnungsanlagen und Einrichtungen zum Trocknen des Behandlungsgutes, Rohrleitungen, Vorratsbehälter, Abluftleitungen, auch wenn sie in anderen Räumen untergebracht sind, und Einrichtungen zur Detachur, nicht jedoch kurzzeitig mit der Anlage verbundene Schlauchleitungen.
Zur Chemischreinigungsanlage gehören auch sonstige Einrichtungen, soweit sie zum sicheren Betrieb der Chemischreinigungsanlage erforderlich sind, z. B. Einrichtungen zur Raumbelüftung. - Lösemittel sind Halogenkohlenwasserstoffe und Kohlenwasserstoffe sowie deren Zubereitungen.
Zu den genannten Lösemitteln gehören insbesondere:- Perchlorethylen (Tetrachlorethen),
- Kohlenwasserstoffe mit Flammpunkten über 55 °C (KWL),
- hochentzündliche, leicht entzündliche und entzündliche Stoffe, insbesondere Benzine.
Leicht entzündlich sind flüssige Stoffe, wenn sie einen Flammpunkt unter 21 ºC aufweisen.
Entzündlich sind flüssige Stoffe, wenn sie einen Flammpunkt von 21 ºC bis einschließlich 55 ºC aufweisen.
Auch Flüssigkeiten, die keinen Flammpunkt besitzen, können Dampf-Luftgemische bilden, die innerhalb stoffspezifischer Konzentrationsgrenzen durch Zündquellen, z. B. durch Lichtbogen, zur Explosion gebracht werden können.
Zubereitungen sind Gemische, Gemenge oder Lösungen von Stoffen, siehe auch § 3 Nr.4 Chemikaliengesetz. - Behandlungsgut sind Textilien, Pelze und Leder.
- Detachur ist das Entfernen von Flecken aus dem Behandlungsgut durch offene Anwendung von Lösemitteln oder deren Zubereitungen.
- Umladeverfahren ist ein Verfahren, bei dem das Behandlungsgut nach dem Reinigen und Schleudern von Hand aus der Reinigungsmaschine in einen Trockner umgeladen werden muss.
